特許
J-GLOBAL ID：200903046538752270
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク及びそれらの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-322521
公開番号（公開出願番号）：特開平10-161294
出願日： 1996年12月03日
公開日（公表日）： 1998年06月19日
要約：
【要約】【課題】従来のハーフトーン型位相シフトマスクの欠点を解消するために、半透明膜を単一金属化合物薄膜すなはち酸化ジルコニウムシリサイド膜で形成したハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク及びそれらの製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】透光性基板1上にジルコニウムシリサイドターゲットを反応性スパッタさせて酸化ジルコニウムシリサイド膜からなる半透明膜2を設け、ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクを作製し、該半透明膜2をパターン化して半透明膜パターン2aからなるハーフトーン型位相シフトマスクを作製する。
請求項（抜粋）：
透光性基板上に半透明膜を形成してなるハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクにおいて、前記半透明膜がジルコニウムシリサイド化合物薄膜よりなることを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
