特許
J-GLOBAL ID：200903046549051869

液晶表示装置の製造方法

発明者：
谷口 由雄

谷口 由雄 について

, 
井上 浩治

井上 浩治 について


出願人/特許権者：
松下電器産業株式会社

松下電器産業株式会社 について


代理人 (1件)： 宮井 暎夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-156495
公開番号（公開出願番号）：特開2002-350864
出願日： 2001年05月25日
公開日（公表日）： 2002年12月04日
要約：
【要約】【課題】 液晶表示装置において、従来の球状スペ-サを散布する方式から、フォトリソグラフィーで柱状スペ-サを形成する方式に置き換えた場合、工程数の増加により、コストの上昇を招いていた。【解決手段】 カラ-フィルタ基板1a上に、ネガ型の感光性樹脂膜5を所要膜厚に塗布した後、フォトマスク20のパターン設計を柱状スペ-サ部5bにあたるところを全透過部20a、全透過部以外の領域を全遮光部20bにして露光し、未露光部分を全て現像除去しないハーフ現像を行って、所要厚みの平坦化膜部5aとその上に所要高さの柱状スペーサ部5bとを一括形成することにより、工程数の増加を抑える。その結果、コストの上昇を抑えることができる。
請求項（抜粋）：
一対の基板のうち一方の基板上にネガ型の感光性樹脂膜を形成する工程と、全透過部および全遮光部の両方が形成されたフォトマスクを用いて前記ネガ型の感光性樹脂膜を少なくとも1回露光する工程と、未露光部分をすべて現像除去しないハーフ現像を少なくとも1回行うことにより平坦化樹脂膜と前記平坦化樹脂膜上に形成される柱状スペーサとを一括して形成する工程とを含む液晶表示装置の製造方法。
IPC (5件)：
G02F 1/1339 500 ,  G02F 1/1333 505 ,  G02F 1/1335 505 ,  G03F 7/004 511 ,  G03F 7/30
FI (5件)：
G02F 1/1339 500 ,  G02F 1/1333 505 ,  G02F 1/1335 505 ,  G03F 7/004 511 ,  G03F 7/30
Fターム (40件)：
2H025AA00 ,  2H025AB13 ,  2H025AB14 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025FA15 ,  2H025FA28 ,  2H089LA09 ,  2H089LA11 ,  2H089MA04X ,  2H089NA05 ,  2H089NA14 ,  2H089QA12 ,  2H089QA13 ,  2H089TA05 ,  2H089TA09 ,  2H089TA12 ,  2H089TA13 ,  2H090HA04 ,  2H090HB07X ,  2H090HC05 ,  2H090HC12 ,  2H090HD03 ,  2H090LA02 ,  2H090LA15 ,  2H091FA02Y ,  2H091FA35Y ,  2H091FB02 ,  2H091FB12 ,  2H091FC10 ,  2H091GA07 ,  2H091GA08 ,  2H091LA12 ,  2H091LA13 ,  2H096AA28 ,  2H096AA30 ,  2H096BA01 ,  2H096BA09 ,  2H096GA01 ,  2H096GA60
引用特許：
審査官引用 (6件)
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