SiO2を主成分とする酸化物皮膜およびその製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岸本瑛之助 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-219386
公開番号（公開出願番号）：特開2003-154597
出願日： 1997年01月21日
公開日（公表日）： 2003年05月27日
要約：

【要約】【課題】緻密な皮膜と凹凸を有する皮膜との長所を合わせ持った酸化物皮膜を有する基材を提供する。【解決手段】表面に酸化物皮膜を有する金属またはガラス等の材質の基材は、SiO2を主成分とするとともに、ゾル-ゲル法により形成されており、緻密層2上に凹凸層3が一体に形成され、凹凸層3の表面全体に微細な凹凸が形成されて粗面化されていて、凹凸層3の表面粗さが最大高さRmaxで0.03〜3μmであり、凹部から最近接の凹部あるいは凸部から最近接の凸部までの間隔が0.03〜10μmとなされている酸化物皮膜を有している。

請求項（抜粋）：

SiO2を主成分とするとともに、ゾル-ゲル法により形成されており、緻密層上に凹凸層が一体に形成され、凹凸層の表面全体に微細な凹凸が形成されて粗面化されていて、凹凸層の表面粗さが最大高さRmaxで0.03〜3μmであり、凹部から最近接の凹部あるいは凸部から最近接の凸部までの間隔が0.03〜10μmとなされている酸化物皮膜を有する基材。

IPC (4件)：

B32B 9/00 , C01B 33/12 , C03C 17/25 , C23C 20/08

FI (4件)：

B32B 9/00 A , C01B 33/12 C , C03C 17/25 A , C23C 20/08

Fターム (55件)：

4F100AA17B , 4F100AA20A , 4F100AA20B , 4F100AB01C , 4F100AB10 , 4F100AG00C , 4F100AH06 , 4F100AT00C , 4F100BA03 , 4F100BA07 , 4F100BA10B , 4F100BA10C , 4F100DC11B , 4F100DD01A , 4F100DD07B , 4F100EJ34 , 4F100EJ341 , 4F100EJ82 , 4F100EJ822 , 4F100EJ86 , 4F100EJ862 , 4F100JA14A , 4F100JB02 , 4F100JD05 , 4F100JK14B , 4F100JM02B , 4F100YY00B , 4F100YY00C , 4G059AA08 , 4G059AB19 , 4G059AC01 , 4G059AC22 , 4G059EA05 , 4G059EB07 , 4G072AA25 , 4G072BB09 , 4G072FF01 , 4G072FF04 , 4G072GG01 , 4G072GG03 , 4G072HH30 , 4G072JJ11 , 4G072JJ14 , 4G072LL11 , 4G072PP17 , 4G072QQ09 , 4G072RR05 , 4G072TT30 , 4K022AA02 , 4K022AA03 , 4K022BA15 , 4K022BA20 , 4K022DA06 , 4K022DB01 , 4K022EA01

引用特許：

審査官引用 (8件)

低屈折率反射防止膜
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-255007 出願人：日産化学工業株式会社
特開昭63-193101
特開昭64-044742

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