特許
J-GLOBAL ID：200903077446845495
ゾル-ゲル法による独立膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
赤岡 迪夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-150359
公開番号（公開出願番号）：特開平9-309717
出願日： 1996年05月21日
公開日（公表日）： 1997年12月02日
要約：
【要約】【課題】 ゾル-ゲル法を用いて、柔軟性を有するオルガノシロキサンを主成分とする平滑かつ緻密で透明な独立膜を形成する方法を提供する。【解決手段】 オルガノアルコキシシランを含有する出発原料を加水分解・重縮合させて得られたゾルを基材上に展開し、ゲル化させる。三次元網目構造のネットワーク構成単位が、式R<SB>n </SB>SiO<SB>(4-n)/2</SB>(ただし、Rはメチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、フェニル基、ビニル基から選ばれる有機基、nは0<n≦1.7である。)であるオルガノポリシロキサンを主成分とする独立ゲル膜を得る。得られた膜中に残存する未反応のシラノール基の重縮合反応を促進するために、塩基性ガス中500°C以下で熱処理してもよい。
請求項（抜粋）：
オルガノアルコキシシランを含有する出発原料を加水分解・重縮合させて得られたゾルを基材上に展開し、ゲル化させることを特徴とする独立膜の製造方法。
IPC (4件)：
C01B 33/113
, B01J 19/00
, C03B 8/02
, C03B 19/12
C01B 33/113 Z
, B01J 19/00 K
, C03B 8/02
, C03B 19/12
