特許

J-GLOBAL ID：200903046689202727

マーキング方法および保護膜形成兼ダイシング用シート

発明者： 佐伯 尚哉 ,  篠田 智則 ,  中岸 昭枝
出願人/特許権者： リンテック株式会社
代理人 (4件)： 鈴木 俊一郎 ,  牧村 浩次 ,  高畑 ちより ,  鈴木 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-329418
公開番号（公開出願番号）：特開2006-140348
出願日： 2004年11月12日
公開日（公表日）： 2006年06月01日
要約：

【課題】 ワークに形成された保護膜にマーキングを行うプロセスにおいて、ワークの反りを抑制することで保護膜に精度良くマーキングを行うマーキング方法、ならびにそのような方法に好適に用いられる保護膜形成兼ダイシング用シートを提供すること。【解決手段】 リングフレームに張設された支持フィルムと、該支持フィルム上に剥離可能に積層された保護膜と、該保護膜に固着されたワークとからなる積層状態において、 該支持フィルム側からレーザー光照射によって該保護膜にマーキングするマーキング方法。【選択図】 図5

請求項（抜粋）：

リングフレームに張設された支持フィルムと、該支持フィルム上に剥離可能に積層された保護膜と、該保護膜に固着されたワークとからなる積層状態において、 該支持フィルム側からレーザー光照射によって該保護膜にマーキングするマーキング方法。

IPC (1件)：

H01L 21/301

FI (1件)：

H01L21/78 M

引用特許：

出願人引用 (2件)

• チップ用保護膜形成用シートおよび半導体チップの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-081226   出願人：リンテック株式会社
• チップ用保護膜形成用シート
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-379755   出願人：リンテック株式会社

審査官引用 (3件)

• チップ用保護膜形成用シート
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-379755   出願人：リンテック株式会社
• マーキング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-205315   出願人：北雅俊
• 反射鏡及び反射鏡製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-235084   出願人：株式会社東海理化電機製作所