特許

J-GLOBAL ID：200903046699256400

スルファモイルフェノール化合物の製造方法

発明者： 山川 一義
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 飯田 敏三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-398675
公開番号（公開出願番号）：特開2002-193913
出願日： 2000年12月27日
公開日（公表日）： 2002年07月10日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 短工程、高収率でスルファモイルフェノール化合物を製造する方法を提供する。【解決手段】 一般式Iのスルファモイルフェノール化合物を製造するに当り、一般式IIのフェノールスルホン酸化合物を無溶媒、またはハロゲン系有機溶剤を除く有機溶媒中、ハロゲン化剤と反応させ、次いで一般式IIIのアミン化合物と反応させるスルファモイルフェノール化合物の製造方法。(Xは、ベンゼン環に置換可能な原子または基。mは、0〜4の整数。R1、R2は、それぞれ独立にH、アルキル基、またはアリール基。ここで、R1とR2が互いに結合して、Nとともに5〜7員環を形成していてもよい。Mは水素原子またはカチオン。)

請求項（抜粋）：

一般式(I)で表わされるスルファモイルフェノール化合物を製造するに当り、一般式(II)で表わされるフェノールスルホン酸化合物を無溶媒、またはハロゲン系有機溶剤を除く有機溶媒中、ハロゲン化剤と反応させ、次いで、一般式(III)で表わされるアミン化合物と反応させることを特徴とする一般式(I)で表わされるスルファモイルフェノール化合物の製造方法。一般式(I)【化1】(式中、Xは、ベンゼン環に置換可能な原子または基を表わし、mは、0〜4の整数を表わし、R1、R2は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、またはアリール基を表わす。ここで、R1とR2が互いに結合して、窒素原子とともに5〜7員環を形成していてもよい。)一般式(II)【化2】(式中、X、mは一般式(I)と同じ意味をもち、Mは水素原子またはカチオンを表わす。)一般式(III)【化3】(式中、R1、R2は一般式(I)と同じ意味をもつ。)

IPC (2件)：

C07C303/38 ,  C07C311/29

FI (2件)：

C07C303/38 ,  C07C311/29

Fターム (3件)：

4H006AA02 ,  4H006AC61 ,  4H006BB11

引用特許：

審査官引用 (4件)

• ベンゾピランおよびそれらを含有する医薬組成物
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平8-535402   出願人：ノバルティス・アクチエンゲゼルシャフト
• N,N-二置換スルホンアミド懸垂基を有する重合体およびその使用
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-311773   出願人：ヘキスト・アクチェンゲゼルシャフト
• 特開昭57-181051
  
• 特開昭49-125338