特許
J-GLOBAL ID：200903046731020235
極端紫外光光源装置および極端紫外光光源装置における集光光学手段の汚染抑制方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長澤 俊一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-040729
公開番号（公開出願番号）：特開2007-220949
出願日： 2006年02月17日
公開日（公表日）： 2007年08月30日
要約：
【課題】デブリに含まれるスズおよび/またはスズ化合物を水素ラジカルと反応させ、集光光学手段へのスズの付着、堆積を防止するに際し、水素ラジカルを減少させることなく反応する空間に供給することができるようにすること。【解決手段】ガスカーテン41にエネルギー供給手段6からエネルギーを供給して、ガスカーテン41を形成するガスの少なくとも一部をイオン化およびラジカル化させ、デブリに含まれるスズおよび/またはスズ化合物と反応させて高蒸気圧のスズ化合物とする。これにより、EUV集光鏡2へのスズの付着、堆積を防止することができる。その際、エネルギー供給手段6を、高密度高温プラズマが発生しデブリが放出されるタイミングと同期して動作させ、デブリ発生量の変化に応じてイオンおよびラジカルの量を制御することで、効率よく反応を起こすことができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
容器と、
この容器内に極端紫外光放射種であるスズを導入するためにスズおよび/またはスズ化合物を含む原料を供給する原料供給手段と、
前記容器内で前記供給された原料を加熱して励起し高密度高温プラズマを発生させる加熱励起手段と、
前記高密度高温プラズマから放出される極端紫外光を所定の位置に導く集光光学手段と、
前記加熱励起手段と集光光学手段の間の領域に、高速にシート状のガスを流しガスカーテンを形成させるガス供給手段とを有する極端紫外光光源装置において、
上記ガスカーテンにエネルギーを供給して前記ガスカーテンを形成するガスの少なくとも一部をイオン化および/またはラジカル化させるエネルギー供給手段を設けた
ことを特徴とする極端紫外光光源装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G21K 5/08
, G03F 7/20
H01L21/30 531S
, G21K5/08 X
, G03F7/20 521
