特許

J-GLOBAL ID：200903046757543317

マトリックスパターンの形成方法

発明者： 村山 洋一
出願人/特許権者： 伊藤忠ファインケミカル株式会社 ,  村山 洋一
代理人 (1件)： 西澤 利夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-109855
公開番号（公開出願番号）：特開平9-297210
出願日： 1996年04月30日
公開日（公表日）： 1997年11月18日
要約：

【要約】【課題】 高品質、高性能な成膜とパターニングが可能な、新しいマトリックスパターンの形成方法を提供する。【解決手段】 基板上にレジストパターンを形成した後に顔料または顔料と金属もしくは合金を真空槽内で蒸発させてプラズマを利用した成膜によりマトリックスパターン形成膜を膜付けし、次いでレジストを剥離する。

請求項（抜粋）：

基板上にレジストパターンを形成した後に顔料または顔料と金属もしくは合金を真空槽内で蒸発させてプラズマを利用した成膜によりマトリックスパターン形成膜を膜付けし、次いでレジストを剥離することを特徴とするマトリックスパターンの形成方法。

IPC (5件)：

G02B 5/20 101 ,  C23C 14/04 ,  G02B 5/00 ,  G02F 1/1335 505 ,  G03F 7/004 505

FI (5件)：

G02B 5/20 101 ,  C23C 14/04 B ,  G02B 5/00 B ,  G02F 1/1335 505 ,  G03F 7/004 505

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 硬質カラー薄膜の製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-346490   出願人：村山洋一
• 特開昭60-084505
  
• 特開昭60-104901