特許

J-GLOBAL ID：200903046777651558

マグネトロンスパッタ装置

発明者： 清野 知之 ,  茶原 健一 ,  佐藤 健史 ,  亀井 光浩
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-123058
公開番号（公開出願番号）：特開平9-310176
出願日： 1996年05月17日
公開日（公表日）： 1997年12月02日
要約：

【要約】【課題】一辺が長いレーストラック状プラズマを発生させる磁石移動型マグネトロンスパッタ装置による成膜において、均一な膜質の分布を得る。【解決手段】ターゲット表面におけるレーストラックプラズマの中心を原点として該レーストラックプラズマの長手方向をx軸に、ターゲット表面におけるx軸に垂直な方向をy軸としたときの、レーストラックプラズマより外側におけるx軸上の、ターゲットと平行な磁束密度成分が0となる位置におけるターゲットと垂直な磁束密度成分Bzxと、レーストラックプラズマより外側におけるy軸上の、ターゲットと平行な磁束密度成分が0となる位置におけるターゲットと垂直な磁束密度成分Bzyとの関係を、Bzx<0.8 ×Bzyとする。

請求項（抜粋）：

真空容器内にスパッタターゲットと、該スパッタターゲットと対向する位置に膜を付着させるべき基板を配置する機構とを有し、前記スパッタターゲット表面にマグネトロン磁場を形成するための、該スパッタターゲット表面に対して平行に移動可能な磁場発生手段を前記真空容器内、あるいは真空容器外に備え、前記スパッタターゲットに直流電圧、あるいは交流電圧を印加することにより該スパッタターゲット表面に、幾何学的に点対称で、かつ、一方向に長いレーストラック状プラズマを発生させて前記基板に膜を付着させるマグネトロンスパッタ装置において、前記スパッタターゲット表面におけるレーストラック状プラズマの中心を原点として該レーストラック状プラズマの長手方向をx軸に、前記スパッタターゲット表面におけるx軸に垂直な方向をy軸としたときの、前記レーストラック状プラズマより外側における前記x軸上の前記スパッタターゲットと平行な磁束密度成分が0となる位置における前記スパッタターゲットと垂直な磁束密度成分Bzxと、前記レーストラック状プラズマより外側における前記y軸上の、前記スパッタターゲットと平行な磁束密度成分が0となる位置における前記スパッタターゲットと垂直な磁束密度成分Bzyとの関係が、Bzx<0.8×Bzy となることを特徴とするマグネトロンスパッタ装置。

IPC (3件)：

C23C 14/35 ,  H01L 21/203 ,  C23C 14/08

FI (3件)：

C23C 14/35 Z ,  H01L 21/203 S ,  C23C 14/08 D

引用特許：

審査官引用 (4件)

• マグネトロンスパッタ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-023960   出願人：株式会社日立製作所
• 周期磁場発生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-194291   出願人：財団法人レーザー技術総合研究所
• 特公平4-006792
  
• 特公平4-006792