特許
J-GLOBAL ID:200903046795828503

高分子化合物の成形方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 八田 幹雄 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-332776
公開番号(公開出願番号):特開2000-219747
出願日: 1999年11月24日
公開日(公表日): 2000年08月08日
要約:
【要約】【課題】 ポリスクシンイミド系(共)重合体やタンパク質などの分解温度とガラス転移温度との差が小さい高分子化合物を簡単な操作で成形できる方法を提供する。【解決手段】 ガラス転移温度(Tg)を測定することができない高分子化合物を低沸点かつ高比誘電率の溶媒の存在下で加熱、溶融して成形することからなる高分子化合物の成形方法。
請求項(抜粋):
ガラス転移温度(Tg)を測定することができない高分子化合物を低沸点かつ高比誘電率の溶媒の存在下で加熱、溶融して成形することからなる高分子化合物の成形方法。
IPC (4件):
C08J 3/00 CFG ,  B29C 45/00 ,  B29C 47/00 ,  C08L 79:08
FI (3件):
C08J 3/00 CFG ,  B29C 45/00 ,  B29C 47/00
引用特許:
審査官引用 (2件)

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