無定形SiNC被膜を蒸着する方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石田敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-287998
公開番号（公開出願番号）：特開平9-186153
出願日： 1996年10月30日
公開日（公表日）： 1997年07月15日
要約：

【要約】【課題】ケイ素、炭素及び窒素を含む無定形シラン被膜を与える新規な化学蒸着法を提供する。【解決手段】有機ケイ素物質及び窒素源を含む反応性ガス混合物を、被覆されるべき基体を含む蒸着室中に導入し、反応を起こさせて被膜を形成する。

請求項（抜粋）：

次のことを含むケイ素、炭素及び窒素を含む無定形の被膜を基体上に蒸着する方法:基体を含む蒸着室中に有機ケイ素物質及び窒素源を含む反応性ガス混合物を導入し;そして前記反応性ガス混合物を反応させてケイ素、炭素及び窒素を含む無定形被膜を形成すること。

IPC (5件)：

H01L 21/314 , C04B 35/56 301 , C07F 7/08 , C23C 16/36 , H01L 21/205

FI (5件)：

H01L 21/314 A , C04B 35/56 301 A , C07F 7/08 B , C23C 16/36 , H01L 21/205

引用特許：

審査官引用 (3件)

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