特許

J-GLOBAL ID：200903046948517570

基板を掴んで保持する装置

発明者： シュテファン、ケンプフ ,  ミヒャエル、ライジィング
出願人/特許権者： ジングルス、テクノロジーズ、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツング
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-032299
公開番号（公開出願番号）：特開平9-287073
出願日： 1997年02月17日
公開日（公表日）： 1997年11月04日
要約：

【要約】【課題】 迅速に作動し信頼性の高い基板保持装置を提供する。【解決手段】 本発明は基板(2)を掴んで保持する装置(1)に関する。この装置(1)は、真空チャンバー(4,4’,4’’)内に配置された一つ若しくは複数の基板ホルダー(5)と、一つ若しくは複数の変位可能に配置された掴み体(3)とを有する。前記掴み体(3)は、作動圧力の動作によって若しくはスプリング(6)の動作に対抗して第1の位置に変位されるとともに、空気圧力Paにさらされるダイアフラム(7)の動作および/またはそれと協動する操作要素(8)によって第2の位置に変位される。前記基板(2)は、第1の位置において保持されるとともに第2の位置においてはさらなる移送のために解放される。ダイアフラム(7)は、真空室に一体に組み込まれる。そして、作動位置においては一方の側面(9)に大気圧Paが作用するとともに他方の側面(10)には真空圧Pvが作用し、第2の位置においては両側面(9,10)に真空圧Pvが作用するようにされる。

請求項（抜粋）：

基板(2)を掴んで保持する装置(1)であって、真空チャンバー(4,4’,4’’)内に配置された一以上の複数の基板ホルダー(5)と、変位可能に配置された一以上の掴み体(3)とを有し、前記掴み体(3)は、作動圧力の動作によって若しくはスプリング(6)の動作に対抗して第1の位置に変位するとともに、空気圧力Paにさらされるダイアフラム(7)の動作および/またはそれと協動する操作要素(8)によって第2の位置に変位し、前記基板(2)は、第1の位置においては保持されるとともに第2の位置においてはさらなる移送のために解放され、前記ダイアフラム(7)が真空チャンバー(4)とロックチャンバ(30)との間に配置されることを特徴とする装置。

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 成膜装置のディスク支持装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-107562   出願人：日新電機株式会社