特許
J-GLOBAL ID：200903046948995250
基板処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-104730
公開番号（公開出願番号）：特開平9-275089
出願日： 1996年04月01日
公開日（公表日）： 1997年10月21日
要約：
【要約】【課題】 基板搬入口や基板搬出口付近で基板上に処理液の液滴が落下するのを防止する。【解決手段】 チャンバ2に囲まれた処理室3内で基板Wに処理液を供給して枚葉処理で基板処理する基板処理装置1において、処理室3の基板搬入口8、基板搬出口9の天井部分8a、9aの下面を下方から覆う庇部材12を、基板搬入口8、基板搬出口9を開閉するシャッター11に取り付けた。
請求項（抜粋）：
処理室内で基板に処理液を供給して枚葉処理で基板処理する基板処理装置において、前記処理室の基板搬入口の天井部分の下面を下方から覆う庇部材を、前記基板搬入口を開閉するシャッターに取り付けたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/027
, H01L 21/306
H01L 21/304 341 N
, H01L 21/30 569 C
, H01L 21/306 J
