特許

J-GLOBAL ID：200903046973331456

排気浄化装置

発明者： 影山 悦夫 ,  林 俊一
出願人/特許権者： スズキ株式会社
代理人 (1件)： 西郷 義美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-208594
公開番号（公開出願番号）：特開平7-042539
出願日： 1993年07月31日
公開日（公表日）： 1995年02月10日
要約：

【要約】【目的】 この発明は、HC吸着材からのHCの放出を抑制しつつ下流側触媒体を迅速に活性させ得て、HC吸着材から放出されるHCを確実に浄化し得て、十分な耐久性を発揮させることを目的としている。【構成】 このため、この発明は、内燃機関の排気通路に上流側から順次に上流側触媒体とHC吸着材と下流側触媒体とを設け、前記下流側触媒体の昇温を促進させ且つ前記HC吸着材の昇温を抑制すべく前記上流側触媒体及び下流側触媒体を隣接させて設けたことを特徴とし、また、内燃機関の排気通路に上流側から順次に上流側触媒体とHC吸着材と下流側触媒体とを設け、前記下流側触媒体の昇温を促進させ且つ前記HC吸着材の昇温を抑制すべく前記上流側触媒体及び下流側触媒体を隣接させて設けるとともに前記HC吸着材の上流側の排気通路及びHC吸着材の下流側の排気通路を隣接させて設けたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

内燃機関の排気通路に上流側から順次に上流側触媒体とHC吸着材と下流側触媒体とを設け、前記下流側触媒体の昇温を促進させ且つ前記HC吸着材の昇温を抑制すべく前記上流側触媒体及び下流側触媒体を隣接させて設けたことを特徴とする排気浄化装置。

IPC (7件)：

F01N 3/20 ZAB ,  F01N 3/22 ZAB ,  F01N 3/22 301 ,  F01N 3/24 ZAB ,  F01N 3/24 ,  F01N 3/28 ZAB ,  F01N 3/28 301

引用特許：

審査官引用 (1件)

• エンジン排気ガス流れの処理方法および装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平6-511510   出願人：エンゲルハード・コーポレーシヨン