特許
J-GLOBAL ID：200903046991598095
高圧噴射注入地盤改良工法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
永井 義久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-238876
公開番号（公開出願番号）：特開2003-286717
出願日： 2002年08月20日
公開日（公表日）： 2003年10月10日
要約：
【要約】【課題】処理速度を速く、改良径を大きくすることができ、しかも排泥量が多くならない高圧噴射注入地盤改良工法とする。【解決手段】地盤中に挿入した注入管10を、軸回りに回転させながら引き上げる過程で、前記注入管10の上側位置において、軸心に対して反対の各位置から、それぞれエアを同伴させることなく高圧水のみを噴射ノズル15,15から圧力が15〜25MPa、流量が25〜100リットル/分の条件で、側方に噴射すること、ならびに、前記注入管10の下側位置において、軸心に対して反対の各位置から、それぞれ圧縮エアを同伴させながら、セメントミルクを噴射ノズル16,16から圧力が25〜50MPa、流量が100〜200リットル/分の条件で、高圧噴射すること、によって、地上側への排泥を行いながら地盤中に硬化体を造成する。
請求項（抜粋）：
地盤中に挿入した注入管を、軸回りに回転させながら引き上げる過程で、前記注入管の上側位置において、エアを同伴させることなく高圧水のみを一つの噴射ノズルから圧力が15〜25MPa、流量が50〜200リットル/分の条件で、側方に噴射すること、ならびに、前記注入管の下側位置において、軸心に対して反対の各位置から、それぞれ圧縮エアを同伴させながら、セメントミルクを噴射ノズルから圧力が25〜50MPa、流量が100〜200リットル/分の条件で、高圧噴射すること、によって、地上側への排泥を行いながら地盤中に硬化体を造成することを特徴とする高圧噴射注入地盤改良工法。
Fターム (15件)：
2D040AB03
, 2D040BA01
, 2D040BA02
, 2D040BC01
, 2D040BD05
, 2D040CA01
, 2D040CB03
, 2D040CD02
, 2D040DA03
, 2D040DA09
, 2D040DA11
, 2D040DA12
, 2D040DA16
, 2D040DA17
, 2D040FA04
