特許
J-GLOBAL ID：200903046998070320
レーザ加工方法およびインクジェットヘッド製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田畑 昌男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-099291
公開番号（公開出願番号）：特開2008-254027
出願日： 2007年04月05日
公開日（公表日）： 2008年10月23日
要約：
【課題】開口部のエッジの形状が均一で、該開口部の直径の誤差が小さい貫通孔をプレートに形成し、加工によって生じた生成物を容易に除去できるレーザ加工方法およびインクジェットヘッド製造方法を提供する。【解決手段】オリフィスプレート1のレーザビーム5が照射されるレーザ照射面に、流動性を有した上面流動層2aと、上面保護フィルム3とをこの順に設ける工程と、オリフィスプレート1のインク吐出面に、上面流動層2aよりも粘性率が高い下面流動層2bと、下面保護フィルム4とをこの順に設ける工程と、オリフィスプレート1のレーザ照射面に対してレーザビーム5を照射し、オリフィスプレート1にオリフィス8を形成する工程と、上面保護フィルム3および下面保護フィルム4を除去する工程と、上面流動層2aおよび下面流動層2bを除去する工程とを含む。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
レーザ光によりプレートに貫通孔を形成するレーザ加工方法において、
上記プレートのレーザ光が照射されるレーザ照射面に、流動性を有した第1流動層と、第1保護フィルムとをこの順に設ける工程と、
上記プレートのレーザ照射面とは反対側の面に、上記第1流動層よりも粘性率が高い第2流動層と、第2保護フィルムとをこの順に設ける工程と、
上記プレートのレーザ照射面に対してレーザ光を照射し、上記プレートに貫通孔を形成する工程と、
上記第1保護フィルムおよび上記第2保護フィルムを除去する工程と、
上記第1流動層および上記第2流動層を除去する工程とを含むことを特徴とするレーザ加工方法。
IPC (5件)：
B23K 26/38
, B23K 26/40
, B23K 26/00
, B23K 26/16
, B41J 2/135
B23K26/38 330
, B23K26/40
, B23K26/00 G
, B23K26/16
, B41J3/04 103N
2C057AF93
, 2C057AP23
, 2C057AP60
, 2C057AQ03
, 4E068AF01
, 4E068CA04
, 4E068CG05
, 4E068DA00
, 4E068DB07
