特許

J-GLOBAL ID：200903046999873770

リソグラフィ装置およびデバイス製造方法

発明者： リーペン,マイケル ,  ホーゲンダム,クリスティアーン,アレクサンダー ,  リーブレッツ,パウルス,マルティヌス,マリア ,  ヴァン デル ハム,ロナルド ,  サイモンズ,ウィルヘルムス,フランシスカス,ヨハネス ,  ディレックス,ダニエル,ヨゼフ,マリア ,  バークヴェンス,ポール,ペトラス,ヨアネス ,  モンド,エヴァ ,  ブランズ,ゲルト-ヤン,ゲラルドゥス,ヨハネス,トーマス ,  ステッフェンス,コエン ,  レンペンス,ハン,ヘンリクス,アルデゴンダ
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (3件)： 稲葉 良幸 ,  大賀 眞司 ,  大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-309567
公開番号（公開出願番号）：特開2008-147652
出願日： 2007年11月30日
公開日（公表日）： 2008年06月26日
要約：

【課題】投影システムの最終素子と基板との間の空間にて液体のメニスカスを所定の位置にくぎ付けする液体供給システムを提供する。【解決手段】液体閉じ込めシステムと基板の間の液体のメニスカスがメニスカスくぎ付け形体によって実質的に所定の位置にくぎ付けにされる、液浸リソグラフィに使用するための液体閉じ込めシステムが開示される。メニスカスくぎ付け形体は、多角形に配置された複数の離散出口を備える。【選択図】図6

請求項（抜粋）：

パターニングデバイスからのパターンを液体を通して基板上へ投影するように構成されたリソグラフィ投影装置であって、前記液体を前記基板に隣接する空間に少なくとも部分的に閉じ込める液体閉じ込めシステムを備え、前記液体閉じ込めシステムが、前記空間の周囲に配置されて、(i)前記空間からの液体と(ii)前記液体閉じ込めシステムの外側の環境からのガスとの混合物を除去することによって、前記液体を前記空間に少なくとも部分的に閉じ込める複数の離散した出口を備える、リソグラフィ投影装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20

FI (3件)：

H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 514E

Fターム (3件)：

5F046AA17 ,  5F046AA28 ,  5F046CB24

引用特許：

出願人引用 (5件)

• 液体回収装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
  公報種別：再公表公報   出願番号：JP2004012787   出願人：株式会社ニコン
• 露光装置及びデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-431950   出願人：株式会社ニコン
• リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-417259   出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
• 露光方法及び露光装置、デバイス製造方法、並びに露光装置の評価方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-074863   出願人：株式会社ニコン
• 露光装置及びデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-044800   出願人：株式会社ニコン

審査官引用 (5件)

• 液体回収装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
  公報種別：再公表公報   出願番号：JP2004012787   出願人：株式会社ニコン
• 露光装置及びデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-431950   出願人：株式会社ニコン
• リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-417259   出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
• 露光方法及び露光装置、デバイス製造方法、並びに露光装置の評価方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-074863   出願人：株式会社ニコン
• 露光装置及びデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-044800   出願人：株式会社ニコン