特許

J-GLOBAL ID：200903047003572341

荷電粒子線露光装置および直描用マスク並びに描画方法

発明者： 山田 泰久
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 若林 忠 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-228145
公開番号（公開出願番号）：特開2000-058424
出願日： 1998年08月12日
公開日（公表日）： 2000年02月25日
要約：

【要約】【課題】 基本パターンのみで反転・回転されたパターンの描画も可能でマスク応力の緩和できる荷電粒子線露光装置、直描用マスクおよび描画方法を提供する。【解決手段】 荷電粒子線露光装置の直描電子照射系5は、荷電粒子ソース51と、荷電粒子線を成形するための開口を有する第1マスク52と、荷電粒子線を直描用マスク55上で所望の形状に成形するための成形偏向器53と、荷電粒子線を直描用マスク55の所望のパターン上に照射させるための選択偏向器54と、直描用マスク55と、荷電粒子線をウェーハ上に収束させるための対物レンズ58と、荷電粒子線の収束位置を決める位置決め偏向器59と不図示の移動用ステージに保持されたウェーハ70とから構成され、直描用マスク55は部分一括開口56や可変成形開口57を有し、不図示のマスクホルダで回転および反転可能に保持される。

請求項（抜粋）：

直描用マスクを用いてウェーハ上のフォトレジストの露光を行う荷電粒子線露光装置であって、荷電粒子線を前記ウェーハに所望の形状で照射する直描電子照射手段と、CAD等を含む情報の入出力手段と、入力された情報に基づいて前記直描電子照射系を制御する制御手段と、前記ウェーハを搭載して該ウェーハの所望の位置を荷電粒子線の照射位置に移動させるウェーハ移動手段と、前記ウェーハを外部と前記ウエーハ移動手段との間で移送するウェーハ移送手段と、を備え、前記直描電子照射手段は、複数の所望の形状の露光パターンを形成した直描用マスクを回転並びに反転可能に保持するマスクホルダを有することを特徴とする荷電粒子線露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 541 S ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521

Fターム (14件)：

2H097BB03 ,  2H097CA16 ,  2H097EA02 ,  2H097EA03 ,  2H097JA02 ,  2H097LA10 ,  5F056AA06 ,  5F056AA30 ,  5F056CA14 ,  5F056CA15 ,  5F056CB08 ,  5F056CB21 ,  5F056CB40 ,  5F056EA04

引用特許：

審査官引用 (1件)

• アパーチャ及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-020948   出願人：日本電気株式会社