特許
J-GLOBAL ID:200903047030692456

希土類磁石及びその製造方法、製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 木森 有平
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-015743
公開番号(公開出願番号):特開2005-209932
出願日: 2004年01月23日
公開日(公表日): 2005年08月04日
要約:
【課題】 表面の加工劣化層を実用的、且つ簡便な手法により十分に回復させる技術を提供する。【解決手段】 磁石素体を希土類元素を主体とする合金溶湯に浸漬する。磁石素体としては、NdFeB系希土類焼結磁石等の希土類焼結磁石である。磁石素体としては、機械加工により所定の厚さ、例えば厚さ2mm以下に加工された磁石素体において効果が顕著である。合金溶湯は、融点が1000°C以下であることが好ましい。また、合金溶湯は、50原子%以上の割合で希土類元素を含有する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
磁石素体が希土類元素を主体とする合金溶湯により浸漬処理されていることを特徴とする希土類磁石。
IPC (5件):
H01F1/053 ,  B22F3/24 ,  B22F3/26 ,  C22C33/02 ,  H01F41/02
FI (5件):
H01F1/04 H ,  B22F3/24 E ,  B22F3/26 B ,  C22C33/02 H ,  H01F41/02 G
Fターム (13件):
4K018AA27 ,  4K018FA06 ,  4K018FA09 ,  4K018FA35 ,  4K018HA08 ,  4K018KA45 ,  5E040AA04 ,  5E040CA01 ,  5E040NN17 ,  5E040NN18 ,  5E062CC03 ,  5E062CD04 ,  5E062CG01
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (9件)
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