特許

J-GLOBAL ID：200903047036658977

プラズマ発生装置

発明者： 奥村 裕 ,  野沢 俊久 ,  釘宮 敏洋 ,  西塚 哲也
出願人/特許権者： 株式会社エフオーアイ
代理人 (1件)： 久保田 直樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-223685
公開番号（公開出願番号）：特開2006-332075
出願日： 2006年08月18日
公開日（公表日）： 2006年12月07日
要約：

【課題】良質のプラズマを均一に供給する。【解決手段】プラズマ発生空間22がプラズマ処理空間13に隣接し且つ連通しているプラズマ発生装置において、プラズマ発生空間22が線状に形成されており、且つ、プラズマ発生空間22とプラズマ処理空間13との連通路14を延伸させる連通路延伸部材110がプラズマ処理空間13側に付加され、連通路延伸部材が場所によって異なる厚さに調整されている。高密度プラズマ20が低温プラズマ10へ送り込まれる量が連通路延長部114の長さに応じて調節される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

プラズマ処理空間が形成された第1機構と、前記第1機構に取着して又はそれと一体的に設けられプラズマ発生空間が形成された第2機構とを具え、前記プラズマ発生空間が前記プラズマ処理空間に隣接し且つ連通しているプラズマ発生装置において、 前記プラズマ発生空間が線状に形成されており、 前記プラズマ発生空間と前記プラズマ処理空間との連通路を延伸させる連通路延伸部材が前記プラズマ処理空間側に付加され、前記連通路延伸部材が場所によって異なる厚さに調整されていることを特徴とするプラズマ発生装置。

IPC (3件)：

H05H 1/46 ,  H01L 21/306 ,  C23C 16/505

FI (3件)：

H05H1/46 L ,  H01L21/302 101B ,  C23C16/505

Fターム (9件)：

4K030FA01 ,  4K030FA04 ,  4K030KA30 ,  5F004AA01 ,  5F004BA06 ,  5F004BA07 ,  5F004BB07 ,  5F004BC03 ,  5F004BD04

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特開平3-79025号公報
  
• 特開平4-81324号公報
  
• 特開平4-290428号公報
  
• 高周波プラズマ発生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-215146   出願人：株式会社アドテック