ゾルゲルガラス及びその作製方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：秋田収喜
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-345146
公開番号（公開出願番号）：特開2002-154844
出願日： 2000年11月13日
公開日（公表日）： 2002年05月28日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】シリコン超微粒子がゾルゲルマトリックス中に均一(完全)もしくはほぼ均一に分散したゾルゲルガラス及びその作製方法を提供する。【解決手段】テトラエトキシシランSi(OC2H5)4を、Si(OC2H5)4:C2H5OH:H2O:HCl:DMF=1:4:10:0.3:1(モル比)となるように混合、調整した一次出発溶液に、シリコン超微粒子をテトラエトキシシランとの重量百分率で8.3wt%となるようにエタノールに分散させた懸濁液を調整し、該エタノール懸濁液5mlを一次出発溶液に加えて最終的な出発溶液とした。該ゾルゲル溶液を10mm×40mm石英基板にディップ法により塗布し、室温大気中で約100時間乾燥させることによりゾルゲルディップガラスを作製した。得らた薄膜ガラスについて、PLスペクトルを測定し、ガラスマトリックス中にシリコン超微粒子が組み込まれているこを確認した。

請求項（抜粋）：

シリコン超微粒子がゾルゲルマトリックス中に均一もしくはほぼ均一に分散したことを特徴とするゾルゲルガラス。

IPC (2件)：

C03C 14/00 , C03B 8/02

FI (2件)：

C03C 14/00 , C03B 8/02 B

Fターム (10件)：

4G014AH04 , 4G062AA04 , 4G062AA15 , 4G062BB02 , 4G062CC05 , 4G062DA08 , 4G062MM02 , 4G062NN10 , 4G062NN19 , 4G062PP02

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平1-183438
超微粒子分散ガラス状物の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-210528 出願人：三ツ星ベルト株式会社
非線形導波路の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-187599 出願人：日本板硝子株式会社

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