特許

J-GLOBAL ID：200903047270896890

気相成長装置

発明者： 今西 大介
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 松隈 秀盛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-020568
公開番号（公開出願番号）：特開平10-219453
出願日： 1997年02月03日
公開日（公表日）： 1998年08月18日
要約：

【要約】【課題】 反応管と、原料ガス供給部のメンテナンスを個別に行うことができるようにする。【解決手段】 気相成長装置において、反応管13と、原料ガス供給部30と、キャリアガス供給部33と、原料ガス供給路34と、反応管パージガス供給路44と、原料ガス送出路54と、原料ガス供給部30からの原料ガスを、反応管13と、原料ガス送出路54とに切り換え供給する切り換え手段104とを設ける。

請求項（抜粋）：

気相成長を行う反応管と、1以上の原料ガス供給源からなり、原料ガスの供給を行う原料ガス供給部と、少なくともキャリアガスを供給することのできるキャリアガス供給部と、上記原料ガス供給部からの原料ガスと、上記キャリアガス供給部からのキャリアガスとを反応管に供給する原料ガス供給路と、上記キャリアガス供給部から、上記反応管に、直接ガスを送り込む反応管パージガス供給路と、上記原料ガス供給部からの原料ガスを、上記反応管外に送出する原料ガス送出路と、上記原料ガス供給部からの原料ガスを、上記反応管と、上記原料ガス送出路とに切り換え供給する切り換え手段とを有することを特徴とする気相成長装置。

IPC (4件)：

C23C 16/44 ,  C30B 25/14 ,  C30B 29/40 502 ,  H01L 21/205

FI (4件)：

C23C 16/44 D ,  C30B 25/14 ,  C30B 29/40 502 D ,  H01L 21/205

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 化学気相成長方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-196926   出願人：富士通株式会社
• 特開昭64-089513
  
• 特開昭64-089513