特許
J-GLOBAL ID：200903047300456512
球状基板、半導体装置および球状基板の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-032033
公開番号（公開出願番号）：特開2003-234259
出願日： 2002年02月08日
公開日（公表日）： 2003年08月22日
要約：
【要約】【課題】 結晶方位を精度よく識別することが可能な球状基板およびその製造方法、さらにこの球状基板を用いた半導体装置を提供する。【解決手段】 球状基板1は識別マーク2を備える。識別マーク2は、球状基板1の表面が平面化された平面領域を含んでいてもよい。このようにすれば、球状基板1が識別マーク2を有するので、球状基板1を利用した半導体装置の製造工程において、球状基板1の位置合せを精度良く行うことができる。また、球状基板1の表面における平面領域は比較的容易に検出することができるので、識別マーク2の検出を容易かつ確実に行うことができる。
請求項（抜粋）：
識別マークを備える球状基板。
IPC (4件)：
H01L 21/02
, H01L 21/304 622
, H01L 21/304
, H01L 29/06 601
H01L 21/02 A
, H01L 21/02 B
, H01L 21/304 622 G
, H01L 21/304 622 T
, H01L 29/06 601 B
