特許
J-GLOBAL ID:200903047309521210
キレート形成能を有する多孔性中空糸膜及び該多孔性中空糸膜による酸化ゲルマニウムの回収方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小林 雅人 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-127459
公開番号(公開出願番号):特開2000-317281
出願日: 1999年05月07日
公開日(公表日): 2000年11月21日
要約:
【要約】【課題】 従来は廃棄されるに任されていたゲルマニウムを経済的かつ効率的に回収することのできる多孔性中空糸膜、及び、この多孔性中空糸膜による酸化ゲルマニウムの回収方法を提供する。【解決手段】 本発明の多孔性中空糸膜は、ポリエチレン製多孔性中空糸膜の表面に放射線グラフト重合されたエポキシ基を含有する化合物の残基と、該残基と反応して式【化1】又は、式【化2】で表される構造を含む残基を与える化合物とを反応させて得られることを特徴とするものであり、同様に本発明が採用した酸化ゲルマニウムの回収方法の構成は、このキレート形成能を有する多孔性中空糸膜に対し、酸化ゲルマニウムを含有する水溶液を接触させることにより、該水溶液中の酸化ゲルマニウムを、前記キレート形成能を有する多孔性中空糸膜で捕集し、その後、酸性溶液により前記捕集された酸化ゲルマニウムを溶出することを特徴とする。
請求項(抜粋):
ポリエチレン製多孔性中空糸膜の表面に放射線グラフト重合されたエポキシ基を含有する化合物の残基と、該残基と反応して式【化1】(式中、R1及びR2は水素原子又は低級アルキル基を示す。)、又は、式【化2】で表される構造を含む残基を与える化合物とを反応させて得られることを特徴とするキレート形成能を有する多孔性中空糸膜。
IPC (5件):
B01D 69/08
, B01D 71/26
, D06M 10/00
, D06M 14/28
, D06M 15/273
FI (5件):
B01D 69/08
, B01D 71/26
, D06M 10/00 J
, D06M 14/28
, D06M 15/273
Fターム (36件):
4D006GA02
, 4D006HA18
, 4D006KA03
, 4D006KA71
, 4D006KB30
, 4D006KD12
, 4D006KD17
, 4D006KE12P
, 4D006KE13P
, 4D006KE15R
, 4D006MA01
, 4D006MA22
, 4D006MA24
, 4D006MA33
, 4D006MB14
, 4D006MC22X
, 4D006MC71X
, 4D006MC82
, 4D006NA34
, 4D006NA42
, 4D006NA54
, 4D006PA04
, 4D006PB08
, 4D006PB70
, 4D006PC01
, 4L031AB06
, 4L031BA09
, 4L031CB08
, 4L031DA00
, 4L033AB02
, 4L033AC11
, 4L033AC15
, 4L033BA45
, 4L033CA12
, 4L033CA21
, 4L033DA06
引用特許:
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