特許

J-GLOBAL ID：200903047348186797

ターゲット部材およびその製造方法

発明者： 村田 英夫 ,  篠原 肇
出願人/特許権者： 日立金属株式会社
代理人 (1件)： 牧 克次
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-081418
公開番号（公開出願番号）：特開平5-247642
出願日： 1992年03月04日
公開日（公表日）： 1993年09月24日
要約：

【要約】【目的】 スパッタ法により磁気記録用磁性膜を作製するのに供するターゲット部材において、均一な磁気特性の磁性膜を作製できるようにした。【構成】 原子%でNiを5〜30%、Cr、MoおよびWのうち一種以上を4〜18%、V、Nb、Ta、Ti、Zr、HfおよびRuのうち少なくとも一種以上を0.1〜8%、残部Coからなる合金で、組成が均一でかつ相対密度が98%以上ある焼結体に形成したターゲット部材である。ターゲット部材を製造する場合、急冷凝固法により作製した粒径32メッシュ以下の合金粉末を金属製容器に充填封入した後、加圧焼結する。

請求項（抜粋）：

スパッタリング用のターゲット部材において、その組成が原子%で、Coを主体としてNiを5〜30%、Cr、MoおよびWのうち一種以上を4〜18%、V、Nb、Ta、Ti、Zr、HfおよびRuのうち少なくとも一種以上を0.1〜8%、残部実質的にCoと不可避的不純物からなる合金で、組成が均一でかつ相対密度が98%以上ある焼結体であることを特徴とするターゲット部材。

IPC (4件)：

C23C 14/34 ,  C22C 19/07 ,  G11B 5/84 ,  H01F 41/18

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-097636
  
• 特開平2-097636
  
• スパツタリング用ターゲツト
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-076575   出願人：三菱マテリアル株式会社