特許

J-GLOBAL ID：200903047348513038

基板洗浄ノズル及び基板の洗浄方法

発明者： 深澤 雄二 ,  石崎 逸郎
出願人/特許権者： 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社 ,  株式会社東芝
代理人 (1件)： 外川 英明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-005337
公開番号（公開出願番号）：特開平9-199466
出願日： 1996年01月17日
公開日（公表日）： 1997年07月31日
要約：

【要約】【課題】基板上に付着した多様な粒径のパーティクルを効率良く除去する基板洗浄ノズル及び基板の洗浄方法を提供すること。【解決手段】基板洗浄ノズル8に、各々異なる周波数を有する超音波を発し、洗浄液入口1より注入された洗浄液に超音波を印加する振動子2,3を具備する。また、振動子2,3の真ん中から発する1番強度が大きい超音波の各々の照射方向の延長線上の交点が、基板11上に来るように反射板6を設ける。

請求項（抜粋）：

基板を洗浄するための洗浄液を注入する洗浄液入口と、各々異なる周波数を有する超音波を発し、前記洗浄液に前記超音波を印加する2つの振動子と、前記超音波が印加された前記洗浄液を前記基板上に噴出する洗浄液噴出口とを具備したことを特徴とする基板洗浄ノズル。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 ,  B08B 3/12

FI (2件)：

H01L 21/304 341 N ,  B08B 3/12 B

引用特許：

審査官引用 (1件)

• マルチ高周波数洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-055021   出願人：本多電子株式会社