特許
J-GLOBAL ID:200903047365564290
膜モジュールの洗浄方法及び膜ろ過装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
木戸 一彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-381763
公開番号(公開出願番号):特開2002-177746
出願日: 2000年12月15日
公開日(公表日): 2002年06月25日
要約:
【要約】【課題】 少量の薬液で効果的な膜洗浄を行うことができるとともに、処理効率を向上させて水回収率を高めることができる膜モジュールの洗浄方法及び膜ろ過装置を提供する。【解決手段】 膜モジュールの薬液洗浄を、ろ過工程処理終了時に、膜モジュールの一端から膜内に圧縮空気を導入して膜内の処理水を膜モジュールの他端から処理水槽に回収する工程と、該処理水回収工程終了後に膜モジュールの一端から膜内に薬液を注入する工程と、該薬液注入工程終了後に膜モジュールの一端から膜内に圧縮空気を導入して前記薬液を膜外部側に押出す工程と、該薬液押出工程終了後に膜内に処理水を導入して膜内を水で満たす処理水導入工程とにより行う。
請求項(抜粋):
浸漬型中空糸膜モジュールを薬液により洗浄する方法であって、ろ過工程処理終了時に、膜モジュールの一端から膜内に圧縮空気を導入して膜内の処理水を膜モジュールの他端から処理水槽に回収する工程と、該処理水回収工程終了後に膜モジュールの一端から膜内に薬液を注入する工程と、該薬液注入工程終了後に膜モジュールの一端から膜内に圧縮空気を導入して前記薬液を膜外部側に押出す工程と、該薬液押出工程終了後に膜内に処理水を導入して膜内を水で満たす処理水導入工程とを含むことを特徴とする膜モジュールの洗浄方法。
IPC (4件):
B01D 65/02 520
, B01D 63/02
, B01D 65/06
, C02F 1/44
FI (5件):
B01D 65/02 520
, B01D 63/02
, B01D 65/06
, C02F 1/44 D
, C02F 1/44 A
Fターム (21件):
4D006GA02
, 4D006HA02
, 4D006HA12
, 4D006HA19
, 4D006HA93
, 4D006HA95
, 4D006JA31A
, 4D006JA39A
, 4D006JA53A
, 4D006JA55A
, 4D006JA63A
, 4D006JA67A
, 4D006JA70A
, 4D006JA71
, 4D006KC03
, 4D006KC14
, 4D006KC16
, 4D006MA01
, 4D006PA01
, 4D006PB02
, 4D006PB08
引用特許: