特許
J-GLOBAL ID：200903047389095500
イオン浸透療法を利用した投薬装置及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 暁秀 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-538598
公開番号（公開出願番号）：特表2003-510006
出願日： 1998年02月27日
公開日（公表日）： 2003年03月11日
要約：
【要約】本発明は、可撓性を有する印刷回路基板(12)と一対の可撓性の電極(20、21)との間に挟まれた可撓性を有する貯蔵器(16)を具えるイオン浸透療法を利用した投薬装置に関するものである。硬質の頂上カバーがスナップ嵌め結合により貯蔵器上の隆起部分に配置される。この硬質のカバーにより装置を衝撃から保護する一方、可撓性を有する貯蔵器、回路基板及び電極が患者の皮膚に合致する。可撓性部材の形状により製造処理を相当に簡素化することができるので、装置がより低廉で制作し易いものとなる。
請求項（抜粋）：
a)対抗する第1及び第2の表面を有する可撓性の貯蔵手段と、b)前記可撓性を有する貯蔵手段の第1の表面上で支持される、可撓性の相当に平坦な投与電極と、c)前記第2の表面に近接する可撓性を有する貯蔵手段上に配置された可撓性を有する回路基板上で支持される電気回路を含む制御手段と、d)硬質の保護カバーであって、前記回路基板が貯蔵手段と硬質の保護カバーとの間に配置されるように配置される当該カバーとを含む、イオン浸透性の投薬装置。
引用特許：
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