特許
J-GLOBAL ID:200903047392975308
成膜装置および成膜方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
石川 泰男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-377406
公開番号(公開出願番号):特開2002-184048
出願日: 2000年12月12日
公開日(公表日): 2002年06月28日
要約:
【要約】【課題】 膜厚を制御しながら膜を形成することができる成膜装置および成膜方法を提供する。【解決手段】 光ディスク基板3を回転させるターンテーブル1と、光ディスク基板3上に紫外線硬化樹脂4を供給する成膜液供給装置2と、を備え、ターンテーブル1により光ディスク基板3を回転させつつ成膜液供給装置2により光ディスク基板3上に紫外線硬化樹脂4を供給する。
請求項(抜粋):
基板を回転させる回転手段と、前記回転手段の回転中に前記基板上に成膜液を供給する成膜液供給装置と、を備えることを特徴とする成膜装置。
Fターム (6件):
5D121AA04
, 5D121EE22
, 5D121EE24
, 5D121EE28
, 5D121EE29
, 5D121GG02
引用特許: