特許

J-GLOBAL ID：200903047439507766

枚葉式の熱処理装置

発明者： 青木 一二 ,  八木 宏憲
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-067261
公開番号（公開出願番号）：特開平9-237763
出願日： 1996年02月28日
公開日（公表日）： 1997年09月09日
要約：

【要約】【課題】 適正な配光量分布を行なって被処理体の加熱温度の面内均一性を確保することができる枚葉式の熱処理装置を提供する。【解決手段】 処理容器18内の載置台20に載置した被処理体Wを、複数の加熱ランプ32と個々のランプに対応させて設けたコーン反射部34とよりなる加熱手段36からの熱線により間接的に加熱するようにした枚葉式の熱処理装置において、前記加熱手段からの熱線の総配光量のピークを前記被処理体の周辺端部よりも僅かな距離だけ外側に位置させるように構成する。これにより被処理体の温度の面内均一性を向上させる。

請求項（抜粋）：

処理容器内の載置台に載置した被処理体を、複数の加熱ランプと個々のランプに対応させて設けたコーン反射部とよりなる加熱手段からの熱線により間接的に加熱するようにした枚葉式の熱処理装置において、前記加熱手段からの熱線の総配光量のピークを前記被処理体の周辺端部よりも僅かな距離だけ外側に位置させるように構成したことを特徴とする枚葉式の熱処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/26 ,  H01L 21/285 ,  H01L 21/285 301 ,  C23C 16/46

FI (5件)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/285 C ,  H01L 21/285 301 R ,  C23C 16/46 ,  H01L 21/26 L

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-132595   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-326676   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 特開平2-117129
  
• 特表平3-500549