特許

J-GLOBAL ID：200903047557439740

精密研磨用組成物

発明者： 石飛 健 ,  今井 文男 ,  貴堂 高徳 ,  阪本 博
出願人/特許権者： 昭和電工株式会社 ,  山口精研工業株式会社
代理人 (1件)： 福田 武通 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-250539
公開番号（公開出願番号）：特開平9-286975
出願日： 1996年09月20日
公開日（公表日）： 1997年11月04日
要約：

【要約】【課題】 コンピュータ等の記憶装置に使用される磁気ディスク基板、特にアルミディスク基板を高鏡面に研磨することができ、高記録密度の磁気ディスク基板を製造するのに適した研磨用組成物を提供する。【解決手段】 Al合金基板上に成膜された無電解NiPメッキ膜を研磨するための精密研磨用組成物であって、水、αアルミナ粒子、研磨促進剤からなり、前記αアルミナ粒子は微粒子ギブサイトを原料とするか、または前記αアルミナ粒子の平均粒子径(D50)が0.35〜0.55μmであるか、または前記αアルミナ粒子の90%粒子径(D90)が0.7μm以下であるか、または前記αアルミナ粒子の最大粒子径(Dmax )が1.4μm以下である。

請求項（抜粋）：

Al合金基板上に成膜された無電解NiPメッキ膜を研磨するための精密研磨用組成物であって、水、αアルミナ粒子、研磨促進剤からなり、前記αアルミナ粒子は微粒子ギブサイトを原料とすることを特徴とする精密研磨用組成物。

IPC (4件)：

C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14 ,  B24B 37/00 ,  G11B 5/84

FI (4件)：

C09K 3/14 550 D ,  C09K 3/14 550 Z ,  B24B 37/00 H ,  G11B 5/84 A

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 研磨剤組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-097217   出願人：三菱化成株式会社
• 特開平3-277683
  

審査官引用 (1件)

• 研磨剤組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-097217   出願人：三菱化成株式会社