回転電極を用いた高密度ラジカル反応による高能率加工装置

発明者： ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (1件)：柳野隆生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-267554
公開番号（公開出願番号）：特開平11-106963
出願日： 1997年09月30日
公開日（公表日）： 1999年04月20日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】高出力光用ミラーであるSR光用X線ミラーやCO2レーザー用ミラー等の形状加工の特に適した回転電極を用いた高密度ラジカル反応による高能率加工装置。【解決手段】回転電極と被加工物とを相対的に移動させるXY駆動機構4として、高い平面度を有する定盤2の上面9に、定盤2と同一素材からなる高い真直度の断面四角形のX軸ガイド10をX軸方向に向けて固定し、Xテーブル32とYテーブル33を共に同一基準面となる定盤2の上面に複数の静圧パッド38にて浮上状態で載置し、Xテーブル32をX軸ガイド10に沿って静圧パッド38にて非接触状態で移動可能とするとともに、Yテーブル33をXテーブル32に設けたX軸ガイド面39に沿って静圧パッド38にて非接触状態で移動可能とし、静圧パッド38に供給する気体としてチャンバー内の雰囲気ガスと同じ気体を用いてなる、回転電極を用いた高密度ラジカル反応による高能率加工装置。

請求項（抜粋）：

チャンバー内の反応ガス及び不活性ガスからなる大気圧近傍のガス雰囲気中に、回転軸心に対して回転対称形である回転電極と被加工物を配設し、該回転電極と被加工物の加工進行部との間に加工ギャップを維持しつつ、回転電極を高速に回転させて該回転電極表面でガスを巻き込むことによって前記加工ギャップを横切るガス流を形成するとともに、回転電極に高周波電力を供給し、加工ギャップでプラズマを発生して反応ガスに基づく中性ラジカルを生成し、該中性ラジカルと被加工物の加工進行部を構成する原子又は分子とのラジカル反応によって生成した揮発性物質を気化させて除去し且つ回転電極と被加工物とを相対的に変移させて加工を進行してなる回転電極を用いた高密度ラジカル反応による高能率加工装置であって、前記回転電極と被加工物とを相対的に移動させるXY軸駆動機構として、高い平面度を有する定盤の上面に、前記定盤と同一素材からなる高い真直度の断面四角形のX軸ガイドをX軸方向に向けて固定し、XテーブルとYテーブルを共に同一基準面となる定盤の上面に複数の静圧パッドにて浮上状態で載置し、XテーブルをX軸ガイドに沿って静圧パッドにて非接触状態で移動可能とするとともに、YテーブルをXテーブルに設けたY軸ガイド面に沿って静圧パッドにて非接触状態で移動可能とし、前記静圧パッドに供給する気体としてチャンバー内の雰囲気ガスと同じ気体を用いてなることを特徴とする回転電極を用いた高密度ラジカル反応による高能率加工装置。

IPC (4件)：

C23F 4/00 , F16C 32/06 , H01L 21/302 , H01L 21/301

FI (4件)：

C23F 4/00 A , F16C 32/06 , H01L 21/302 Z , H01L 21/78 S

引用特許：

審査官引用 (4件)

回転電極を用いた高密度ラジカル反応による高能率加工方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-176476 出願人：森勇藏
特開平4-223830
特開昭61-065736

全件表示

前のページに戻る