露光マスクとその露光マスクによって製造される多層基板

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井桁貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-126572
公開番号（公開出願番号）：特開平5-323574
出願日： 1992年05月20日
公開日（公表日）： 1993年12月07日
要約：

【要約】【目的】厚みの異なる金属膜が形成された露光マスクと、該露光マスクによって絶縁層の露光,現像を行い、現像によって形成されたパターン部に導電パターンの積層を行うことで多層基板の形成を行うようにした露光マスクとその露光マスクによって製造される多層基板に関し、多層基板の製造工程の削減により、コストダウンを図ることを目的とする。【構成】所定の厚みによる第1の金属膜と、該第1の金属膜の所定箇所に積層され、該第1の金属膜の厚みと異なる厚みを有する第2の金属膜とより成る遮光パターンを透明なガラス基材に設けることで露光マスクを形成し、また、前記露光マスクを基板に積層された感光性ポリイミドより成る絶縁層に重ね合わせ、露光, 現像することで該絶縁層には凹部となるパターン部と、該絶縁層を完全に除去する貫通部とを同時に形成し、該パターン部と、該貫通部とに導電材を積層することで導電パターンの形成を行い、多層基板を形成するように構成する。

請求項（抜粋）：

所定の厚み(T1)による第1の金属膜(2) と、該第1の金属膜(2) を覆うことで積層され、該第1の金属膜(2) の厚み(T1)と異なる厚み(T2)に形成される第2の金属膜(3) とより成る遮光パターン(4) を透明なガラス基材(1) に設けることで形成することを特徴とする露光マスク。

IPC (3件)：

G03F 1/08 , H05K 3/00 , H05K 3/46

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭61-292145
特開平2-213122
特開平1-221741

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