特許
J-GLOBAL ID:200903047634952006

多孔質炭素材料、その製造方法、及びそれを用いた排ガス処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 奥山 尚男 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-217140
公開番号(公開出願番号):特開2000-044214
出願日: 1998年07月31日
公開日(公表日): 2000年02月15日
要約:
【要約】【課題】 細孔径を制御した多孔質炭素材料とその製造方法、さらに低温の窒素酸化物を高性能に無害化できる脱硝方法及び窒素酸化物や希ガスの吸着方法を提供する。【解決手段】 厚さ100μm以下の原料用高分子材料を二酸化炭素、水蒸気、酸素などから選ばれる少なくとも1種以上を含む酸化性雰囲気中、800°C〜1100°Cで0.5時間以上加熱処理することを特徴とする、細孔径を制御した多孔質炭素材料の製造方法を提供する。また、該方法により得られた、細孔径を制御した多孔質炭素材料を用いて、室温における窒素酸化物を無害化する脱硝方法及び窒素酸化物や希ガス等を吸着する吸着方法を提供する。
請求項(抜粋):
厚さ100μm以下の原料用高分子材料を二酸化炭素、水蒸気、酸素などから選ばれる少なくとも1種以上を含む酸化性雰囲気中で加熱処理し、細孔径を制御することを特徴とする多孔質炭素材料の製造方法。
IPC (5件):
C01B 31/02 101 ,  B01D 53/34 ,  B01D 53/81 ,  B01J 20/20 ,  B01J 35/10 301
FI (4件):
C01B 31/02 101 A ,  B01J 20/20 A ,  B01J 35/10 301 F ,  B01D 53/34 B
Fターム (63件):
4D002AA12 ,  4D002AA40 ,  4D002BA04 ,  4D002CA07 ,  4D002CA20 ,  4D002DA41 ,  4D002GA01 ,  4D002GB12 ,  4D002GB20 ,  4G046CA04 ,  4G046CB03 ,  4G046CB08 ,  4G046CC02 ,  4G046CC03 ,  4G066AA04B ,  4G066AA09D ,  4G066AA10D ,  4G066AA14D ,  4G066AA43D ,  4G066AC27A ,  4G066BA03 ,  4G066BA22 ,  4G066BA23 ,  4G066BA26 ,  4G066BA36 ,  4G066CA21 ,  4G066CA28 ,  4G066DA02 ,  4G066FA34 ,  4G069AA02 ,  4G069AA08 ,  4G069AA12 ,  4G069BA01B ,  4G069BA08A ,  4G069BA08B ,  4G069BA22C ,  4G069CA02 ,  4G069CA03 ,  4G069CA08 ,  4G069CA13 ,  4G069DA05 ,  4G069EA08 ,  4G069EB15X ,  4G069EB15Y ,  4G069EC04X ,  4G069EC04Y ,  4G069EC05X ,  4G069EC05Y ,  4G069EC07Y ,  4G069EC11X ,  4G069EC12X ,  4G069EC12Y ,  4G069EC13X ,  4G069EC13Y ,  4G069ED10 ,  4G069FA01 ,  4G069FA03 ,  4G069FB23 ,  4G069FB30 ,  4G069FB34 ,  4G069FB40 ,  4G069FC02 ,  4G069FC07
引用特許:
審査官引用 (5件)
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