特許
J-GLOBAL ID：200903047683743668
設計ルールの照合システム及び方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 稔 (外9名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-512112
公開番号（公開出願番号）：特表2003-526110
出願日： 1998年09月17日
公開日（公表日）： 2003年09月02日
要約：
【要約】光学的近接補正(OPC)により補正された、又は 他の方法により補正された設計に関する設計ルール照合の方法が説明される。補正された設計は、模擬画像を生成するためにアクセスされる(2010)。この模擬画像は、補正された設計を介して向けられた照明源にウェーハが露光される場合に、ウェーハ上に印刷される画像のシミュレーションに相当するものである(2020)。この照明源の特性は、リソグラフィのパラメータのセットによって決定される。照明源の特性は、製造プロセスの各部をシミュレートするために使用することができる。次に、模擬画像は、設計ルール・チェッカーによって使用されることが可能である。重要な点は、この模擬画像が、OPC補正設計レイアウトにおける頂点数に比較し、この模擬画像における頂点数を減少するように処理可能であるということである。また、模擬画像は、理想レイアウト画像と比較することができ、次に、その結果は、設計ルール照合を行うために必要な情報量を低減するために使用できる。
請求項（抜粋）：
集積回路の補正されたレイアウト部分である補正設計に関する設計ルール照合を行う方法であって、 補正設計にアクセスするステップ、 上記補正設計を使用して、照明源を、上記補正設計に相当するマスクを介して向けることによって印刷される画像のシミュレーションに相当する模擬画像を生成するステップ、及び 上記模擬画像に相当する第2画像に関する設計ルール照合を行うステップとを含むことを特徴とする設計ルール照合方法。
IPC (5件)：
G03F 1/08
, G06F 17/50 658
, G06F 17/50 666
, H01L 21/027
, H01L 21/82
G03F 1/08 A
, G06F 17/50 658 M
, G06F 17/50 666 C
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/82 C
2H095BB01
, 5B046AA08
, 5B046BA06
, 5B046JA02
, 5F064DD04
, 5F064HH09
, 5F064HH10
, 5F064HH15
