微細構造転写装置および微細構造転写方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：ポレール特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-344715
公開番号（公開出願番号）：特開2008-155413
出願日： 2006年12月21日
公開日（公表日）： 2008年07月10日
要約：

【課題】アスペクト比1以上の高アスペクト比微細構造体を高スループットで形成すること。【解決手段】1対の円筒形加圧加熱ロールから構成された微細な構造を転写するための微細構造転写装置を用い、金型と基材表面の接触部の圧力が1MPa以上であり、且つ、基材の進行方向と平行な加圧部分の幅Wが数式1を満たす条件でパターン転写を行う。 W≧128・η・a/P ・・・・数式1上記数式1において、η:基材表面の粘度(Pa・s),a:ロールの周速度(mm/s),P:加圧部圧力(Pa)である。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

微細な構造が形成された金型と、前記金型を基材表面に加圧するための1対の円筒形加圧加熱手段とから構成され、前記基材表面上に微細な構造を転写するための微細構造転写装置において、前記金型と前記基材表面の接触部圧力が1MPa以上であり、基材の進行方向と平行な加圧部分の幅Wが数式1を満たしていることを特徴とする微細構造転写装置。 W≧128・η・a/P ・・・・数式1 上記数式1において、η:基材表面の粘度(Pa・s)、a:ロールの周速度(mm/s)、P:加圧部圧力(Pa)である。

IPC (2件)：

B29C 59/04 , H01L 21/027

FI (3件)：

B29C59/04 C , H01L21/30 502D , B29C59/04 B

Fターム (17件)：

4F209AD08 , 4F209AF01 , 4F209AG05 , 4F209AH33 , 4F209AH73 , 4F209AR02 , 4F209AR08 , 4F209AR17 , 4F209PA03 , 4F209PA06 , 4F209PB02 , 4F209PH06 , 4F209PQ01 , 4F209PQ06 , 4F209PQ07 , 4F209PQ16 , 5F046AA28

引用特許：

出願人引用 (1件)

米国特許5,772,905号明細書

審査官引用 (4件)

エンボスシートの製造装置、エンボスシートの製造方法、エンボスシート
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-114395 出願人：出光興産株式会社
マイクロエンボスシートの製造方法およびマイクロエンボスシート
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-107092 出願人：出光ユニテック株式会社
微細構造転写装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-151763 出願人：株式会社日立プラントテクノロジー

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