特許
J-GLOBAL ID:200903047726347290
半導体装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
中村 純之助
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-196483
公開番号(公開出願番号):特開平9-045915
出願日: 1995年08月01日
公開日(公表日): 1997年02月14日
要約:
【要約】【課題】微小な半導体島群、細線群を互いに相互作用のある形で多重連結し、かつ、その機能を電気信号として取り出す。【解決手段】絶縁層上の半導体層を含んでなる半導体装置において、前記半導体層の一部が他の部分より薄く加工され、薄く加工された該半導体層(2)、(3)は、薄く加工されていない厚い領域(1)にはさまれており、薄く加工された該半導体層(2)の長さを制御することにより、一部をトンネル絶縁性、残りの部分を完全絶縁性とした構成。
請求項(抜粋):
絶縁層上の半導体層を含んでなる半導体装置において、前記半導体層の一部が他の部分より薄く加工され、かつ、薄く加工された該半導体層の一部がトンネル絶縁性、残りの部分が完全絶縁性を有することを特徴とする半導体装置。
IPC (4件):
H01L 29/78
, H01L 29/06
, H01L 29/66
, H01L 29/80
FI (4件):
H01L 29/78 301 J
, H01L 29/06
, H01L 29/66
, H01L 29/80 A
前のページに戻る