特許

J-GLOBAL ID：200903047807758626

高圧アニール装置へ対する純水供給用タンク装置

発明者： 河原 勝
出願人/特許権者： 株式会社協真エンジニアリング
代理人 (6件)： 社本 一夫 ,  増井 忠弐 ,  小林 泰 ,  千葉 昭男 ,  富田 博行 ,  竹内 茂雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-101610
公開番号（公開出願番号）：特開2004-311633
出願日： 2003年04月04日
公開日（公表日）： 2004年11月04日
要約：

【課題】結晶用ガラス基板やシリコンウエーハ等のワークへ酸化膜を形成する時には、使用する純水中へ金属イオンや空気中の塵や埃等の混入を極力防止する必要がある。これまで純水は、一回のアニール処理作業に必要な量を予め特定し、その量だけを純水容器へ注入し、純水容器を圧力容器の中へ設置してアニール作業を行なっているため、純水中へ不純物が混入し所定の品質が得られないという課題があった。また、純水が反応容器から逆流してきた時の手当てが全く施されていないため、空焚きを行なうという課題があった。【解決手段】タンク本体33内には、純水の液位を検知するため、上限警報センサー38、上限検知センサー39、逆流による漏洩検知センサー40、下限検知センサー41及び下限警報センサー42を設置する。センサーは、プラスチック製のフロートスイッチが好ましい。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

高圧アニール装置へ純水を供給するための純水供給用タンク装置であって、 所定量の純水を収容するタンク本体33と、該タンク本体33へ純水を供給する純水供給手段34と、該タンク本体33から高圧アニール装置11へ純水を供給する純水流路手段30aと、を有しており、 タンク本体33が脱気手段36を備えた密封状態の容器から構成されており、 更に、該タンク本体33が当該タンク本体33内へ供給された純水の液位を検知するためのセンサー手段を有しており、 タンク本体33内へ供給された純水を高圧アニール装置11へ圧力供給するためタンク本体33内へ高圧の不活性ガスを提供するための高圧不活性ガス供給手段37を有している、 ことを特徴とする高圧アニール装置へ純水を供給するための純水供給用タンク装置。

IPC (1件)：

H01L21/31

FI (1件)：

H01L21/31 A

Fターム (6件)：

5F045AA20 ,  5F045AB32 ,  5F045AC00 ,  5F045DP19 ,  5F045DQ05 ,  5F045EE02

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 高純度薬品のための薬品補充システム
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平7-519632   出願人：アドバンスト・ディリバリー・アンド・ケミカル・システムズ・インコーポレイテッド
• 加圧式加熱炉
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-155466   出願人：石川島播磨重工業株式会社