特許
J-GLOBAL ID:200903047853072917

疎水性シリカ粉末およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-060487
公開番号(公開出願番号):特開2002-256170
出願日: 2001年03月05日
公開日(公表日): 2002年09月11日
要約:
【要約】【課題】優れた疎水性、流動性を安定して保持することが可能であり、各種有機、無機粉体の流動化剤や、樹脂等の増粘剤、補強充填剤として有用な疎水性シリカ粉末を提供する。【解決手段】ポリシロキサン及びトリメチルシリル化剤により表面処理されたシリカ粉末であって、トリメチルシリル基がシリカ粉末の原体シリカ粉末の表面積1nm2あたり0.3〜1.5個の割合で存在せしめ、且つ、ポリシロキサンが該シリカ粉末の原体シリカ粉末100重量部に対して、A/20〜A/5重量部(但し、Aは原体シリカ粉末の比表面積(m2/g)である。)の割合で付着せしめる。
請求項(抜粋):
原体シリカ粉末をポリシロキサン及びトリメチルシリル化剤により表面処理したシリカ粉末であって、トリメチルシリル基が該原体シリカ粉末の表面積1nm2あたり0.3〜1.5個の割合で存在し、且つ、ポリシロキサンが該原体シリカ粉末100重量部に対して、A/20〜A/5重量部(但し、Aは原体シリカ粉末の比表面積(m2/g)である。)の割合で付着していることを特徴とする疎水性シリカ粉末。
IPC (5件):
C09C 1/28 ,  C01B 33/159 ,  C01B 33/18 ,  C09C 3/12 ,  C08K 9/06
FI (5件):
C09C 1/28 ,  C01B 33/159 ,  C01B 33/18 C ,  C09C 3/12 ,  C08K 9/06
Fターム (24件):
4G072AA41 ,  4G072GG01 ,  4G072GG02 ,  4G072GG03 ,  4G072HH14 ,  4G072HH28 ,  4G072HH29 ,  4J002AA001 ,  4J002DJ016 ,  4J002FB146 ,  4J002FB266 ,  4J002GS00 ,  4J037AA18 ,  4J037CB23 ,  4J037CB26 ,  4J037CC28 ,  4J037EE02 ,  4J037EE03 ,  4J037EE04 ,  4J037EE25 ,  4J037EE43 ,  4J037EE44 ,  4J037EE50 ,  4J037FF17
引用特許:
出願人引用 (6件)
全件表示
審査官引用 (7件)
全件表示

前のページに戻る