特許

J-GLOBAL ID：200903047881168350

露光用マスク

発明者： 佐藤 昌仙 ,  梅木 和博
出願人/特許権者： リコー光学株式会社
代理人 (1件)： 樺山 亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-078618
公開番号（公開出願番号）：特開平7-287388
出願日： 1994年04月18日
公開日（公表日）： 1995年10月31日
要約：

【要約】【目的】フォトレジスト層を、断面形状が台形もしくは三角形状もしくは逆台形形状や逆三角形形状となるようにパターニングを行いうる新規な露光用マスクの提供【構成】平行平板状の透明基板11の片面に、1以上の正または負の屈折面10Aが形成され、上記片面または他方の面に、光束を規制する遮光膜10Bのパターンが、屈折面10Aに対応して形成されており、一方の面の側から平行光束を入射させられる。

請求項（抜粋）：

デバイス材料の平坦な表面に形成されたフォトレジスト層にパターニング用の露光を行うための露光用マスクであって、平行平板状の透明基板の片面に、1以上の正または負の屈折面が形成され、上記片面または他方の面に、光束を規制する遮光膜のパターンが上記屈折面に対応して形成されており、一方の面の側から平行光束を入射させられることを特徴とする露光用マスク。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  G02B 3/00

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開平3-020733
  
• 特開昭63-071851
  
• フォトマスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-059013   出願人：株式会社クラレ
• 特開平3-020733
  
• 特開昭63-071851