特許

J-GLOBAL ID：200903047908387009

X線露光用マスクおよびそれに用いるマスクブランク

発明者： 松尾 正 ,  野口 文信 ,  田中 正二 ,  福原 信彦
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-218432
公開番号（公開出願番号）：特開平7-074078
出願日： 1993年09月02日
公開日（公表日）： 1995年03月17日
要約：

【要約】【目的】X線照射による位置歪みを含めたパターン位置精度の高い、反射防止膜つきのX線マスクおよびそれに用いるマスクブランクを提供する。【構成】X線透過性支持膜の片側または両側に、X線リソグラフィー時に使用されるアライメント用光に対する反射防止膜が形成されてあり、且つ、該反射防止膜の内部応力は圧縮であり、且つ、該X線透過性支持膜の内部応力は引張であり、特にはX線透過性支持膜と反射防止膜との関係で、(|σT |・tT -|σR|・tR )/(tT +tR )の値が3×108 乃至7×108 dyn/cm2 であることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

X線を吸収量の多いX線吸収性パターンと、該X線吸収性パターンを支持し且つX線の吸収量の少ないX線透過性支持膜と、該X線透過性支持膜の外周側を支持する枠体とからなるX線露光用マスクにおいて、該X線透過性支持膜の片側または両側に、X線リソグラフィー時に使用されるアライメント用光に対する反射防止膜が形成されてあり、且つ、該反射防止膜の内部応力は圧縮であり、且つ、該X線透過性支持膜の内部応力は引張であること、以上を特徴とするX線露光用マスク。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16

引用特許：

審査官引用 (4件)

• X線露光用マスク及びそのブランク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-129684   出願人：凸版印刷株式会社
• 特開昭55-157739
  
• 特開昭62-049623
  
• 特開平1-173618