特許
J-GLOBAL ID:200903047909147338

高分子化合物及びその製造方法並びに感光性組成物及びパターン形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 栗原 浩之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-395738
公開番号(公開出願番号):特開2001-270919
出願日: 2000年12月26日
公開日(公表日): 2001年10月02日
要約:
【要約】【課題】 水性現像液で現像可能であり、良好なパターニング性を有する、架橋性高分子化合物及びその製造方法並びに感光性組成物及びパターン形成方法を提供する。【解決手段】 下記一般式(I)〜(III)に示される構成単位を含み、各構成単位の比率が、2mol%≦l≦73mol%、8mol%≦m≦83mol%、及び15mol%≦n≦80mol%の範囲とする。【化1】(但し、R1〜R4のそれぞれは水素又はメチル基で、両者が混在してもよい。Xは、水素、アルカリ金属、及び下記一般式(1)で表されるアンモニウム類から選択される1種又は2種以上を表す。pは1〜10の整数を表す。)【化2】(但し、R5〜R8は、それぞれ独立に水素、又はC1〜C3のアルキル基もしくはアルカノール基を表す。)
請求項(抜粋):
下記一般式(I)〜(III)に示される構成単位を含み、各構成単位の比率が、2mol%≦l≦73mol%、8mol%≦m≦83mol%、及び15mol%≦n≦80mol%の範囲にあることを特徴とする高分子化合物。【化1】(但し、R1〜R4のそれぞれは水素又はメチル基で、両者が混在してもよい。Xは、水素、アルカリ金属、及び下記一般式(1)で表されるアンモニウム類から選択される1種又は2種以上を表す。pは1〜10の整数を表す。)【化2】(但し、R5〜R8は、それぞれ独立に水素、又はC1〜C3のアルキル基もしくはアルカノール基を表す。)
IPC (9件):
C08F220/28 ,  C08F 2/50 ,  C08F 8/00 ,  C08F220/06 ,  C08F290/06 ,  C08F290/12 ,  C08F299/00 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/038 501
FI (9件):
C08F220/28 ,  C08F 2/50 ,  C08F 8/00 ,  C08F220/06 ,  C08F290/06 ,  C08F290/12 ,  C08F299/00 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/038 501
Fターム (65件):
2H025AA04 ,  2H025AB15 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC32 ,  2H025BC42 ,  2H025BC53 ,  2H025BC83 ,  2H025CA01 ,  2H025CA28 ,  2H025CC03 ,  2H025CC11 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  4J011AA05 ,  4J011AC04 ,  4J011QA03 ,  4J011QA06 ,  4J011QA07 ,  4J011QA08 ,  4J011QA09 ,  4J011QA34 ,  4J011QA35 ,  4J011QA37 ,  4J011QA38 ,  4J011QA39 ,  4J011QB16 ,  4J011SA01 ,  4J011SA21 ,  4J011SA31 ,  4J011SA63 ,  4J011SA64 ,  4J011SA76 ,  4J011SA78 ,  4J011SA79 ,  4J011TA03 ,  4J011UA01 ,  4J011VA01 ,  4J011WA01 ,  4J027AA02 ,  4J027AC03 ,  4J027BA06 ,  4J027BA07 ,  4J027BA08 ,  4J027CC03 ,  4J027CC05 ,  4J027CD10 ,  4J100AJ02Q ,  4J100AK03Q ,  4J100AK08Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL09P ,  4J100AL66R ,  4J100BA03P ,  4J100BA03R ,  4J100BA08P ,  4J100CA05 ,  4J100CA31 ,  4J100DA61 ,  4J100FA02 ,  4J100HA11 ,  4J100HA19 ,  4J100HA29 ,  4J100HA62 ,  4J100HC39
引用特許:
審査官引用 (3件)

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