特許
J-GLOBAL ID：200903047911945870
ホトマスク並びに光近接効果補正用データの処理方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松本 眞吉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-113199
公開番号（公開出願番号）：特開2001-296645
出願日： 2000年04月10日
公開日（公表日）： 2001年10月26日
要約：
【要約】【課題】光近接効果補正を効果的に行なうと共に、補助パターンの付加によるパターン数の顕著な増大を抑制する。【解決手段】一辺の両端に直角の角を有する元パターンの両角にそれぞれ補助パターンを付加した補正パターンが形成されているホトマスクを電子ビーム露光で製作するために、該補正パターンのデータを作成するコンピュータ15を備え、コンピュータ15は、(S1)元パターンのデータを入力し、(S2)該一辺を延長した辺と該一辺と隣り合う辺の一部である辺とを有する三角形又は四角形を該補助パターンとして該元パターンに付加し、(S3)該元パターンと該補助パターンとの論理和パターンを生成し、(S4)該論理和パターンを、電子ビーム露光装置で処理可能な基本パターンに分解する。
請求項（抜粋）：
元パターンの一辺の両端の角にそれぞれ補助パターンが付加された補正パターンが形成されているホトマスクにおいて、各補助パターンは、該一辺を延長した辺と該一辺と隣り合う辺の一部である辺とを有する三角形又は四角形であることを特徴とするホトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
2H095BB01
, 2H095BB02
, 2H095BB08
, 2H095BB10
, 2H095BB36
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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