特許

J-GLOBAL ID：200903047952664036

半導体製造装置

発明者： 西村 洋一 ,  土橋 誠道
出願人/特許権者： 九州日本電気株式会社
代理人 (1件)： 京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-245470
公開番号（公開出願番号）：特開2001-076987
出願日： 1999年08月31日
公開日（公表日）： 2001年03月23日
要約：

【要約】【課題】 従来、ラインの変動等により露光条件が変動するが、所定の期間に露光処理が行われた製品は、その露光条件のフィードバックが行われていたが、所定の期間に露光処理がされなかったその製品が属するグループのうち、他の製品に対してはそのフィードバックがされなかった。【解決手段】 本発明の半導体製造装置は、第1のグループに属する第1の製品の為に所定期間内に露光処理が実施され、その実施結果に基づきその露光条件が更新された更新露光条件に基づき、第1のグループに属し所定期間内に露光処理が実施されない第2の製品の露光条件を更新することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

第1のグループに属する第1の製品の為に所定期間内に露光処理が実施され、その実施結果に基づきその露光条件が更新された更新露光条件に基づき、前記第1のグループに属し前記所定期間内に露光処理が実施されない第2の製品の露光条件を更新することを特徴とする半導体製造装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 502 G ,  G03F 7/20 521

Fターム (15件)：

5F046AA17 ,  5F046AA18 ,  5F046DA02 ,  5F046DB01 ,  5F046DB02 ,  5F046DB05 ,  5F046DB08 ,  5F046DB10 ,  5F046DD03 ,  5F046JA21 ,  5F046JA22 ,  5F046JA24 ,  5F046LA13 ,  5F046LA14 ,  5F046LA18

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 「リソグラフィ情報管理システム」を『露光装置およびこれを利用した半導体デバイス製造方法、リソグラフィシステムおよびこれを利用した半導体デバイス製造方法』
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-260730   出願人：株式会社ニコン
• 半導体装置の製造工程のフィードバック方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-163694   出願人：ソニー株式会社