特許

J-GLOBAL ID：200903048025299009

レジスト除去洗浄方法及び装置

発明者： 寺田 正一 ,  鈴木 克己 ,  松尾 誠剛
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-263723
公開番号（公開出願番号）：特開2000-100686
出願日： 1998年09月17日
公開日（公表日）： 2000年04月07日
要約：

【要約】【課題】人体・環境に問題のある薬液洗浄法及び高コストのプラズマ洗浄法を代替して、人体・環境に与える影響が少なく低コストで被洗浄物表面からレジストを除去する洗浄方法及び装置を提供する。【解決手段】 水蒸気発生室7内で水6を加熱して水蒸気を発生させ、この水蒸気を管路10を介して洗浄室2に導き、この水蒸気を被洗浄物5の表面が水の沸点以上の温度に加熱された状態の被洗浄物5に接触させることによって被洗浄物5表面のレジスト除去洗浄を行うようにした。

請求項（抜粋）：

水蒸気発生室内で水を加熱して水蒸気を発生させ、この水蒸気を管路を介して洗浄室に導き、この水蒸気を被洗浄物の表面が水の沸点以上の温度に加熱された状態の被洗浄物に接触させることによって被洗浄物表面のレジスト除去洗浄を行うことを特徴とするレジスト除去洗浄方法。

IPC (7件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30 501 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/304 645 ,  H01L 21/306 ,  H05K 3/06 ,  H05K 3/26

FI (7件)：

H01L 21/30 572 B ,  G03F 7/30 501 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/304 645 B ,  H05K 3/06 C ,  H05K 3/26 A ,  H01L 21/306 D

Fターム (21件)：

2H096AA25 ,  2H096LA06 ,  5E339CG01 ,  5E339EE10 ,  5E339GG10 ,  5E343AA02 ,  5E343AA22 ,  5E343EE17 ,  5E343ER11 ,  5E343FF23 ,  5E343GG20 ,  5F043BB30 ,  5F043CC16 ,  5F043DD06 ,  5F043DD07 ,  5F043DD10 ,  5F043EE03 ,  5F043EE10 ,  5F043EE12 ,  5F046MA11 ,  5F046MA13

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平1-239933
  
• 特開平4-370931
  
• 特開平4-338629
  
• 表面処理方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-255846   出願人：セイコーエプソン株式会社