表面処理方法及び装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴木喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-255846
公開番号（公開出願番号）：特開2000-091193
出願日： 1998年09月09日
公開日（公表日）： 2000年03月31日
要約：

【要約】【課題】比較的小型で簡単な装置で、濡れ性向上、アッシングなどの表面処理を、比較的容易にかつ低コストで行うことができる新規な表面処理方法及び装置を提供する。【解決手段】水蒸気発生室内で水を加熱して水蒸気を発生させ、この水蒸気を管路を介して表面表面処理室に導き、この水蒸気を被処理物の表面が水の沸点以上の温度に加熱された状態の被処理物に接触させることによって被処理物の表面処理を行うようにした。

請求項（抜粋）：

水蒸気発生室内で水を加熱して水蒸気を発生させ、この水蒸気を管路を介して表面処理室に導き、この水蒸気を被処理物の表面が水の沸点以上の温度に加熱された状態の被処理物に接触させることによって被処理物の表面処理を行うことを特徴とする表面処理方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , H01L 21/304 645

FI (2件)：

H01L 21/30 570 , H01L 21/304 645 B

Fターム (2件)：

5F046MA12 , 5F046MA13

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開平4-097526
特開平1-239933
特開平4-370931

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