特許
J-GLOBAL ID：200903048055726661

縦型炉用ウェーハボート

発明者：
北野 友久

北野 友久 について


出願人/特許権者：
日本電気株式会社

日本電気株式会社 について


代理人 (1件)： 菅野 中
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-297004
公開番号（公開出願番号）：特開平9-139352
出願日： 1995年11月15日
公開日（公表日）： 1997年05月27日
要約：
【要約】【課題】 ウェーハの自重による応力発生を抑制する。【解決手段】 ウェーハ8の主面に対しほぼ垂直に立てられた複数本の支柱9に設けられた支持棒10がウェーハ中心から周辺側にウェーハ半径の2/3の距離だけ片寄った位置でウェーハ裏面部の<100>あるいは<110>結晶方位を保持する。
請求項（抜粋）：
複数本の支柱と、支持棒とを有し、ウェーハを上下に間隔を置いて複数段に保持する縦型炉用ウェーハボートであって、複数本の支柱は、ウェーハの周辺位置でウェーハ主面にほぼ垂直に立上って設けられたものであり、支持棒は、前記支柱に横向きに設けられ、ウェーハ半径の2/3の距離だけウェーハ中心から周辺部に片寄った位置でウェーハ裏面を支持するものであることを特徴とする縦型炉用ウェーハボート。
IPC (4件)：
H01L 21/22 511 ,  B65D 85/86 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/68
FI (4件)：
H01L 21/22 511 G ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/68 V ,  B65D 85/38 R
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 縦型ボート及びその製造方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-341060   出願人：東芝セラミックス株式会社
  • 特開平2-102523
  • 半導体ウェハの熱処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-293758   出願人：株式会社日立製作所, 日立超エル・エス・アイ・エンジニアリング株式会社

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