特許
J-GLOBAL ID：200903048060914824
X線撮像法
出願人/特許権者：
株式会社日立製作所
株式会社日立製作所 について
代理人 (1件)： 小川 勝男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-284444
公開番号（公開出願番号）：特開2003-090807
出願日： 2001年09月19日
公開日（公表日）： 2003年03月28日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 X線撮像法に係わり、物体の内部を非破壊に検査する撮像方法に関する。X線は試料を透過する際、X線の振幅及び位相が変化する。この位相変化を利用して振幅の変化では観察することができなかった生体の軟部組織等を造影剤の付与をしないで観察することができる。この位相変化を利用した位相差コントラスト型撮影装置で、位相シフタを用いずに位相決定精度の良い位相像を取得する。【解決手段】 入射X線を分割する素子と分割されたX線を結合する素子を相対的に回転させることにより、干渉像に間隔の狭い縞を発生させる。そして、被写体の設置により生じるこの縞の位置変動から位相分布像を計算で求める。【効果】 位相シフタの設置は、吸収による強度の減少やVisibilityの低下を招くという問題もあった。そこで位相シフタを用いずに位相決定精度の良い位相像を取得する。
請求項（抜粋）：
入射するX線を分割素子により相互に干渉する二つのビームに分割し、上記二つのビームの一つに被写体位置決め機構を用いて被写体を挿入して得られるビームと他の一つのビームとを結合素子により結合し、結合したビームを検出器で検出して上記被写体の像を得るX線撮像法において、上記結合素子の回折格子面を等価的に平行移動させるように、上記結合素子を上記分割素子に対して相対的に回転させて測定した像から上記被写体の位相分布像を得ることを特徴とするX線撮像法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
Fターム (19件)：
2G001AA01
, 2G001BA11
, 2G001BA18
, 2G001BA19
, 2G001CA01
, 2G001EA01
, 2G001EA08
, 2G001EA09
, 2G001GA01
, 2G001GA06
, 2G001HA02
, 2G001HA09
, 2G001HA13
, 2G001JA01
, 2G001JA05
, 2G001JA06
, 2G001JA08
, 2G001KA01
, 2G001LA20
引用特許：
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