高度清浄空間

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：金本哲男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-033172
公開番号（公開出願番号）：特開平10-216466
出願日： 1997年01月31日
公開日（公表日）： 1998年08月18日
要約：

【要約】【課題】防災に優れ,かつ湿度の低下が無く,しかも基板などの有機物汚染を防止できるクリーンルームやクリーンベンチなどの高度清浄空間を提供する。【解決手段】湿度が調節された空気を循環させる機構を備えた高度清浄空間1において,空気の循環経路に,撥水性ゼオライトを備えた通気性を有する吸着層11と,この吸着層11の下流側に配された粒子状不純物を除去するフィルタ12を設けたことを特徴とする。この高度清浄空間1によれば,高度清浄空間1内において循環している空気中のガス状有機不純物を,湿度を低下させることなく除去することが可能となる。

請求項（抜粋）：

湿度が調節された空気を循環させる機構を備えた高度清浄空間において,前記空気の循環経路に,撥水性ゼオライトを備えた通気性を有する吸着層と,該吸着層の下流側に配された粒子状不純物を除去するフィルタを設けたことを特徴とする高度清浄空間。

IPC (4件)：

B01D 53/34 , B01D 53/81 , B01D 46/52 , F24F 7/06

FI (3件)：

B01D 53/34 A , B01D 46/52 A , F24F 7/06 C

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開平2-126912
特開平2-126912
ホルムアルデヒド含有ガスの浄化方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-230405 出願人：東洋製罐株式会社, 東ソー株式会社, 東ソー・ゼオール株式会社

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