特許
J-GLOBAL ID:200903048097665468
低圧システム用装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (11件):
前田 弘
, 竹内 宏
, 嶋田 高久
, 竹内 祐二
, 今江 克実
, 藤田 篤史
, 二宮 克也
, 原田 智雄
, 井関 勝守
, 関 啓
, 杉浦 靖也
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-550517
公開番号(公開出願番号):特表2009-524022
出願日: 2007年01月11日
公開日(公表日): 2009年06月25日
要約:
供給源から、高圧ガスのサンプリングに特に有用な低圧装置へのガスの流れを制御するための方法及び装置を示す。RGAの高圧供給の例を挙げると、一実施形態において、上記方法により、高圧のガス容量を分離し、それらの圧力を制限し、このガスを低圧で供給する。一実施形態において、前記装置は、弁と、制流装置と、逆流防止弁とを備えており、例えば、正確で繰り返し可能な量の不連続なガスを高圧部分から低圧部分へ供給するか、又は、連続したガスを高圧部分から低圧部分へ供給する。上記装置及び方法は、供給源の圧力に比較的影響されず、したがって供給源の圧力の範囲を超える復元可能な結果が得られる。
請求項(抜粋):
供給源から低圧装置へガスを供給する装置であって、
前記供給源からガスが流れ込む入口と、出口と、1又は複数の通路内のガスの圧力を第1の圧力よりも低くなるように制限する圧力解放装置と、前記入口と前記出口の間に設けられた少なくとも1つの制流装置とを接続する、前記1又は複数の通路を有するドーズ装置と、
前記出口からのガスの少なくとも一部が流れ込む、ガス分析装置又は工程とを備える、ことを特徴とする装置。
IPC (1件):
FI (2件):
G01N1/00 101T
, G01N1/00 101R
Fターム (11件):
2G052AA03
, 2G052AD22
, 2G052AD42
, 2G052CA03
, 2G052CA04
, 2G052CA05
, 2G052CA35
, 2G052CA38
, 2G052GA24
, 2G052GA27
, 2G052HA18
引用特許:
審査官引用 (2件)
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特公昭40-019000
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超高精度分析装置へのガス供給方法及び装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-251486
出願人:ル・エール・リクイツド・ソシエテ・アノニム・プール・ル・エチユド・エ・ル・エクスプルワテシヨン・デ・プロセデ・ジエオルジエ・クロード
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